本發明提供了一種透射電鏡樣品的制備方法及觀測方法,制備方法包括如下步驟:提供待觀測芯片,所述待觀測芯片包括失效地址單元;通過電子束在所述失效地址單元上形成第一保護層;在所述待觀測芯片上形成一標記,所述標記在所述第一保護層一側;通過離子束在所述第一保護層和所述標記上形成第二保護層。在本發明提供的透射電鏡樣品的制備方法及觀測方法中,可以通過所述標記標出出失效地址單元的位置,從而對制得的透射電鏡樣品觀測時,能夠快速準確的找到失效地址單元,通過兩層保護層能夠有效的保護失效地址單元不受其它操作的影響,通過離子束形成的第二保護層較通過電子束形成的第一保護層更致密,從而既能夠實現對于失效地址單元的有效保護。
聲明:
“透射電鏡樣品的制備方法及觀測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)