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基于多焦投影系統的大景深二值離焦三維測量方法

1175   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 09:00:14
本發明公開了基于多焦投影系統的大景深二值離焦三維測量方法,包括以下步驟:構建多焦條紋投影系統,該系統基于光學投影系統,通過引入柱透鏡實現不同軸向二值條紋聚焦面的分離;建立多焦條紋投影系統的各向異性濾波模型;基于各向異性濾波模型,進行二值條紋投影方法的優化,根據優化后的條紋投影算法,生成并投影多幅相移二值條紋圖案;基于二值條紋圖像序列In分析計算其相位信息,并通過相位展開得到連續的絕對相位;通過系統標定確定多焦條紋投影系統的系統參數,基于系統參數,恢復出大景深物體的三維形貌。本發明能夠有效地避免傳統二值離焦測量方法的聚焦區失效問題,從而大幅提高了其測量景深性能。
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“基于多焦投影系統的大景深二值離焦三維測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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