本發明涉及集成電路技術領域,尤其是涉及到一種用于缺陷分類的光學檢測方法,通過設定一合適的缺陷檢測設備的缺陷檢測靈敏度,并調用該光學缺陷檢測設備對灰階化以及標識后的柵極、有源區和氧化層隔離區進行缺陷檢測,并根據缺陷位于不同程度的灰階判斷缺陷在靜態存儲器的上對應的位置同時進行分類,因此,在線的光學缺陷檢測能夠根據缺陷在靜態存儲器的上面的位置進行準確全面的分類,從而可以對器件的失效模式的研究和缺陷的成因分析帶了極大的便利。
聲明:
“用于缺陷分類的光學檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)