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基于三維TEM樣品進行缺陷分析的方法

715   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:59:56
本發明涉及半導體制造領域，特別涉及一種基于三維TEM樣品進行缺陷分析的方法。包括以下步驟：提供帶有缺陷的半導體樣品；在待觀測區域形成第一標記；橫向電鍍第一鉑金保護層；制備第一TEM樣品；測量缺陷到第一標記的距離；將第一TEM樣品放置到半導體樣品上；縱向電鍍第二鉑金保護層；制備三維TEM樣品；三維TEM成像。本發明的技術方案，在制備三維TEM樣品的基礎上，進行兩個方向的TEM觀測和成像，可以得到半導體制程中缺陷的形貌、大小、所處層次等全面信息，進行對所述缺陷進行準確失效分析，從而提出對半導體制程的可靠改進意見；本發明的技術方案操作方法簡單，三維TEM樣品制備效率高，對TEM樣品進行失效分析效果好，準確率高。
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聲明：
“基于三維TEM樣品進行缺陷分析的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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