本發明是一種基于聚焦評價算法的結構光微納三維形貌測量方法,傳統的基于聚焦評價函數的三維測量方法具有測量系統簡單、無損傷等特點,但由于其本質是根據物體本身紋理信息對聚焦程度進行判斷,對于表面結構光滑、紋理不足的物體難以測量。本發明提出了一種結合結構光照明和聚焦評價函數的三維形貌輪廓術,可以實現對光滑和粗糙表面共存的物體測量。在測量系統中,將DMD產生的圖案投影到物體表面,縱向掃描物體獲得待處理圖片,對于一個像素點而言,在圖像序列中表現為從模糊到清晰再到模糊的過程,其中使用聚焦評價算法定位像素點成像最清晰的圖片位置,再結合曲線擬合算法提取精確聚焦位置,遍歷所有像素點即可獲取物體三維形貌。
聲明:
“基于聚焦評價算法的結構光微納三維形貌測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)