一種干涉測量系統成像畸變標定裝置,屬于光學元件面形干涉測量技術領域,涉及一種干涉測量系統成像畸變標定裝置。本發明能夠在未知干涉測量系統光學設計參數的前提下,實現高精度被測試光學元件的非接觸無損傷原位檢測,得出干涉測量系統的成像畸變,且結構緊湊,減輕了重量和節省了空間,減少了誤差積累,同時降低了操作的復雜性。所述標定裝置為球冠形,在所述標定裝置上沿橫向和縱向分布有若干個通孔,每個通孔的中心和每個與其相鄰的通孔的中心間距相同,每個通孔的中心線均通過所述標定裝置所在球面的球心,且其中的一個通孔位于所述標定裝置的中心,即為中心通孔。
聲明:
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