本發明屬于光學測量技術領域,公開了一種用于節距移動的測量基底及其制備方法、測量方法。測量基底上設置有測量標記,測量標記包括多個標記單元并構成周期性的第一光柵結構;每個標記單元包括2n個標記線條并構成非對稱型的第二光柵結構。制備方法包括設計測量模板、光刻、犧牲層掩膜、沉積、刻蝕。用于節距移動的測量方法包括制備測量基底,采集并根據測量基底產生的+1階、?1階衍射光的光強,獲得節距移動的大小。本發明解決了現有技術中針對節距移動的測量手段分辨率較低、測量速度較慢的問題,能夠實現高速、無損測量,提高測量的靈敏度和分辨率。
聲明:
“用于節距移動的測量基底及其制備方法、測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)