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用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的水冷基底托架裝置

975   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:05
本實用新型涉及一種用于直流弧光放電等離子體化學氣相金剛石薄膜沉積的水冷基底托架裝置,它由不銹鋼真空法蘭、聚砜法蘭、“T”型基底托架、水箱連接件、冷卻水套管、熱電偶套管、熱電偶、水嘴、鎖緊螺母組成,其特征在于“T”型基底托架背面、水箱連接件中心部位分別焊接有熱電偶套管、冷卻水套管,兩者由螺紋連接后形成水循環空間,“T”型基底托架通過聚砜法蘭與反應腔體絕緣,并可上下移動、旋轉,托架表面溫度由熱電偶測量,所有部件均可靈活拆卸,真空、水冷性能好,并采用在此裝置制備出高品質的金剛石薄膜。
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“用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的水冷基底托架裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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