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SONOS器件中ONO結構的制造方法

1079   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:00
本發明公開了一種SONOS器件中ONO結構的制造方法，首先采用低壓氧化工藝在硅襯底上形成預設厚度的隧穿氧化層；接著對隧穿氧化層進行摻氮，且摻氮濃度隨著隧穿氧化層的深度逐漸遞減；然后在隧穿氧化層的上方形成用于存儲電荷的氮化硅層；最后采用化學氣相沉積工藝形成阻擋氧化層。本發明在隧穿氧化層中，由于摻氮濃度隨著氧化層深度逐漸遞減，因此使得整體隧穿氧化層能級也呈平緩遞減，當器件處在寫入狀態時，由于能帶在外電場下發生偏轉，從而電子發生隧穿時通過的勢壘區仍與普通SONOS器件相同，從而保證了擦寫速度的要求。同時，在可靠性測試時，需要高溫進行烘烤，由于梯度隧穿層的作用，電子逃逸更難以實現，從而保證了SONOS器件的數據保存能力。
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