一種用于化學機械拋光的裝置,包括平臺,所述平臺具有表面以支撐拋光墊;承載頭,保持基板抵靠拋光墊的拋光表面;墊調節器,保持調節盤抵靠拋光表面;原位拋光墊厚度監控系統;及控制器??刂破髋渲贸梢韵鄳R界值儲存與多個調節器盤產品的每個相關聯的數據、接收從多個調節盤產品選擇調節器盤產品的輸入、確定與經選擇的調節器盤產品相關聯的特定臨界值、從監控系統接收信號、從信號產生墊切割速率的測量、及若墊切割速率在特定臨界值之外則產生警報。
聲明:
“墊調節器的切割速率監控” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)