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用于多晶硅拋光的低凹陷二氧化硅顆粒的水性組合物

925   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:56:51
本發明提供一種水性化學機械平面化(chemical?mechanical?planarization；CMP)拋光組合物，其包括以下的混合物：(a)一種或多種烷氧基化二胺，其數均分子量(Mn)為1,000到20,000或優選地1000到15000并且具有各自含有5到100個烷氧基重復單元的四個(聚)烷氧基醚基；(b)以所述組合物的總重計，0.01wt.％到2wt.％或優選地0.1wt.％到1.5wt.％呈固體的伸長、彎曲或結節狀膠體二氧化硅顆粒的一種或多種水性分散體，如通過動態光散射(dynamic?light?scattering；DLS)所測定，所述一種或多種粒水性分散體的二次粒徑為20nm到60nm；以及(c)氨或胺堿，其中所述組合物的pH在9到11的范圍內。所述組合物基本上不含金屬，如在拋光時可能損壞襯底的堿或堿土金屬。
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“用于多晶硅拋光的低凹陷二氧化硅顆粒的水性組合物” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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