本發明公開了一種電場傳感器探頭的制作工藝,其技術方案要點是,具體包括以下步驟:S1、切片:切片時選擇電場方向平行于鈮酸鋰晶體z軸方向的X切Z傳鈮酸鋰晶體制備為襯底切片;S2、蒸發:在所述S1中的襯底切片上采用化學氣相沉積技術制備緩沖層鈦作為掩模;S3、光導波刻;S4、PECVD:進行鈦擴散,將鈮酸鋰晶體放在濕氧的環境中進行鈦擴散以抑制LiO2外擴發生,抑制LiNb3O8晶相生成,降低晶體光折變的敏感性;S5、光刻電極;S6、電鍍;S7、磨切;本電場傳感器探頭的制作工藝具有生產流程短,生產出的電場傳感器探頭具有可測動態范圍大、響應速度快、頻率范圍寬、對電場畸變小、測量精度高、與一次設備無電氣連接、全絕緣等特點。
聲明:
“電場傳感器探頭的制作工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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