本發明公開了一種二維通道結構及其制備方法。本發明采用支架支撐隔離層,獲得多種二維通道結構,適用材料范圍廣;各層的間距精確可控,二維通道結構設計約束少,適用眾多圖案;適合工業化生產,圖案精度高且適用于多種工業化生產方法,制作方法簡單,成本低,用途廣泛;工藝約束小,適合多種工藝;可以在隔離層上設計電路,通過外接電源或電信號或光源,或通過調制不同入口壓強,控制離子或分子走向,達到能量轉換或藥物合成等目的;圖案配合適當的探測手段(如拉曼光譜,熒光譜等)能有效實現單分子探測或其他生物探測及化學探測,可配合的系統廣泛。
聲明:
“二維通道結構及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)