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N-Si基板的拋光工藝

993   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:28:34
本發明公開了N?Si基板的拋光工藝，包括如下步驟：A、粗拋光；B、精拋光；C、化學機械拋光；D、對N?Si基板進行進行切割；E、將基板放置于裝有丙酮溶液的燒杯中；F、將基板放置于裝有甲醇溶液的燒杯中；G、將N?Si基板放置于裝有去離子水的燒杯中；H、檢查基板表面是否有殘留物；I、使用氮氣將基板表面吹干，放置烤箱中烘烤10分鐘，即完成拋光工藝。本發明中，采用PH為9.5，濃度為15％，粒徑為30nm的硅溶液，以H2O2和硅溶液比為1:10的比例范圍加入H2O2，進行混合攪拌得到的溶液作為拋光液進行拋光，控制拋光機的壓力為2g/cm2，拋光盤轉速為60rpm，拋光時間在1.2小時，實現對于基板的進一步精準拋光，增加拋光的平滑度。
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聲明：
“N-Si基板的拋光工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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