本發明屬于光學薄膜低折射技術領域,具體涉及一種SiO2薄膜紅外特征吸收峰數量確定方法。本發明涉及光學薄膜在紅外特征吸收峰疊加情況,對疊加吸收峰數量的精確分解方法,具體提出一種對薄膜材料紅外特征吸收光譜吸收峰數量的確定方法,其將不同的吸收峰等效為化學物質的成分,利用紅外光譜測量技術確定化學物質成分組成的原理,對薄膜樣品進行處理后進行吸收峰數量的確定。本發明優點是在于可以準確確定薄膜的吸收峰數量,特別是對于相近吸收峰疊加的情況效果最為明顯。由此,本發明提出通對吸收峰的分解方法,實現能夠精確確定吸收峰的疊加數量,為材料介電常數的反演計算奠定技術基礎。
聲明:
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