一種柔性基底微晶硅薄膜快速、均勻制備的方法,具體步驟:(1)將柔性基底置于真空腔室內;(2)所述柔性基底通過輝光等離子體清洗活化提高鍍制膜層的附著力;(3)采用熱絲輔助甚高頻等離子增強化學氣相沉積方法沉積微晶硅薄膜。本發明創新性地采用熱絲輔助甚高頻等離子體增強化學氣相沉積方法,在低溫下實現柔性基底高質量、高沉積速率、均勻性好的微晶硅薄膜的制備。應用于薄膜太陽電池,可以有效地提高電池穩定性和效率。柔性微晶硅薄膜太陽電池具備高質量比功率、輕質、可彎曲、不易損壞等顯著特點,在平流層飛艇、無人機、微小衛星、深空探測衛星、空間電站以及地面軍事智能化裝備等方面具有非常廣泛的應用前景。
聲明:
“柔性基底微晶硅薄膜的快速、均勻制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)