一種高度取向的腐殖酸膜,其包含化學結合或合并的并且基本上彼此平行的多個腐殖酸(HA)或化學官能化腐殖酸(CHA)片,其中所述膜具有從5nm至500μm的厚度、不小于1.3g/cm3?的物理密度、具有如通過X射線衍射測定的0.4nm至1.3nm的平面間間距d?002#191的六方碳平面、和按重量計低于5%的非碳元素含量或氧含量。
聲明:
“高度取向的腐殖酸膜和由其衍生的高度傳導性石墨膜以及含有其的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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