本發明公開了一種窄帶隙聚吡咯甲烯光電功能聚合物材料的制備方法,屬于共軛聚合物材料的合成技術。該制備方法包括以下過程:將3-丁?;量┡c對十四烷氧基苯甲醛在酸性條件下反應制備聚[(3-丁?;量?-2,5-二(對十四烷氧基苯甲烷)](PBPDTBA);將PBPDTBA利用四氯苯醌進一步醌化得到聚[(3-丁?;量?-2,5-二(對十四烷氧基苯甲烯)](PBPDTBE)。本發明制得的聚吡咯甲烯可以溶于氯仿、苯等低沸點溶劑中,溶解性和成膜性優良,光學帶隙和電化學帶隙分別為1.84eV和1.60eV,采用Z-掃描法測量其三階非線性光學極化率達到1.22×10-8esu。
聲明:
“窄帶隙聚吡咯甲烯光電功能聚合物材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)