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平坦化基底的方法

964   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 08:14:38
本發明的實施例改進基底的平坦度,其中基底的平坦度對于圖案化和良率的提升相當的重要。在達到最終厚度或研磨所有的薄膜之前,使用化學機械研磨法平坦化基底。之后測量基底的輪廓和薄膜厚度,氣體團簇離子束(gas?cluster?ion?beam,GCIB)蝕刻裝置使用測量到的基底輪廓和薄膜厚度數據,決定在特定的位置要移除多少薄膜。氣體團簇離子束蝕刻移除最終的層,使其符合基底均勻度和厚度目標的需求。此機制改進平坦度,以符合先進技術的需求。
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