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辨別碳化硅晶片硅碳面的方法

1194   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:14:38
本發明涉及一種辨別碳化硅晶片硅碳面的方法，其特征在于，包括以下步驟：將機械精拋后的碳化硅晶片進行化學拋光；將化學拋光后的碳化硅晶片用原子力顯微鏡測試其表面，在原子力顯微鏡上顯示出所測試表面的粗糙度數值；若顯示出的粗糙度數值在0.10～0.50nm之間，則所測試的表面為硅面；若顯示出的粗糙度在0.80～3.00nm之間，則所測試的表面為碳面。本發明的特點是既不多加工序也不損傷晶片，即大大的降低成本、提高制片效率，且操作簡單安全；同時能省去一個定位邊，不但能減少再生長得到的晶體缺陷，提高晶體品質，而且與第一代半導體硅單晶片幾何尺寸標準相匹配。
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