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基于劃痕誘導選擇性刻蝕的微流控SERS芯片制備方法

1156   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:08:39
本發明公開了一種基于劃痕誘導選擇性刻蝕的微流控SERS芯片制備方法，包括以下步驟：S1、襯底預處理；S2、掩膜制備及圖案化；S3、活性基底制備；S4、微流控SERS芯片封裝，制備得到微流控SERS芯片；通過刻劃結合金屬輔助化學刻蝕在半導體襯底上簡單快捷地制備出具有嵌套結構的微通道，嵌套結構經沉積金屬顆粒即可形成微流道中具有拉曼光譜增強效果的活性基底?？傮w而言，本發明所述加工方法具有工藝簡單、加工效率高、成本低的特點，可規?；a。本發明所制備的微流控SERS芯片具有較高的表面增強拉曼光譜活性、能實現對納摩爾濃度生化物質的快速、高效、高靈敏度檢測，具有很強的實用價值和廣闊的應用前景，值得在業內推廣。
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“基于劃痕誘導選擇性刻蝕的微流控SERS芯片制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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