本發明提供一種基于氮氫混合氣產生裝置的二氧化釩薄膜的制備方法,屬于二氧化釩薄膜制備技術領域。本發明采用PAD法制備二氧化釩薄膜,針對熱處理過程中還原氣氛容易發生波動從而影響制備二氧化釩薄膜質量的問題,一套還原氣氛產生裝置,使得能夠在穩定的還原氣氛下還原得到高質量的二氧化釩薄膜。本申請通過在管式爐管口處設置氫氣濃度檢測計,并與氫氣產生裝置的電壓源相連,可以在熱處理過程中通過濃度數值變化自動調節電壓源的電壓大小,從而調控氫氣產生速度以控制氫氣濃度在外界環境變化時,爐管內氫氣濃度在較小范圍內波動,從而提供穩定的熱處理氣氛,從而控制氧化釩的化學計量比,制備出可重復性高、質量高的二氧化釩薄膜。
聲明:
“基于氮氫混合氣產生裝置的二氧化釩薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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