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用于MOCVD設備GaAs基外延摻雜源供給系統

989   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:04:05
本發明涉及金屬有機物化學氣相沉積設備技術領域，具體涉及一種用于MOCVD設備GaAs基外延摻雜源供給系統，旨在解決實際生產過程中摻雜源過期使用或未使用完即需更換，從而導致生產的產品質量不能保證，以及生產成本增加的問題，其技術要點在于供若干種類的載氣及摻雜源輸入并輸出調整所得氣體的流通管路、至少兩臺與所述流通管路相連的MOCVD設備，以及一控制子系統，所述載氣與所述摻雜源混合稀釋以輸出指標實時數據符合指標目標數據的所述調整所得氣體；所述控制子系統包括數字化傳感器；執行件；與所述數字化傳感器通信連接，將數字化傳感器檢測所得的指標實時數據與對應的指標目標數據比對，并控制所述執行件動作的控制端。
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“用于MOCVD設備GaAs基外延摻雜源供給系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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