本發明公開了一種提升熔石英光學元件損傷閾值的后處理方法,該方法首先利用熒光共焦顯微技術檢測熔石英光學元件亞表面缺陷分布的范圍與尺度,然后通過KHz和MHz頻率的多頻超聲波交替復用輔助化學腐蝕技術,針對不同深度分布的亞表面缺陷刻蝕不同的深度,針對不同尺度的亞表面缺陷采用不同的頻率,逐層次的剝離亞表面缺陷層,以達到提升損傷閾值的目的。本發明對于光學元件具有全局處理能力,經過氫氟酸腐蝕處理以后拋光沉積層全部去除,暴露了亞表面損傷層中的劃痕,且劃痕尖銳的新貌得以很好的鈍化,引入多頻超聲波/兆聲波輔助可以作用不同尺度的劃痕鈍化,防止刻蝕反應副產物再沉積,提高工藝穩定性,可以極大的穩定的提升熔石英光學元件的損傷閾值。
聲明:
“提升熔石英光學元件損傷閾值的后處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)