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CoCrPt-氧化物磁記錄靶材、薄膜及其制備方法

808   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:01:30
本發明公開了一種CoCrPt-氧化物磁記錄靶材、薄膜及其制備方法，該CoCrPt-氧化物靶材包括SiO2，TiO2，CrO，Cr2O3，Ta2O3，W2O3，Al2O3，Y2O3等氧化物中的一種或幾種，其中氧化物相的平均晶粒尺寸在3～20μm。合金靶材中Co、Cr、Pt形成α-Co及ε-Co兩相Co基固溶體，其中以低溫相六方ε-Co固溶體為主，靶材的厚度在2～6mm之間，靶材的透磁率(PTF)值40％～60％之間。由該合金靶材制得的磁記錄介質的磁記錄層呈(002)晶面的擇優取向生長，在X衍射分析中，用式(1)表示的(002)晶面的X射線衍射峰強度比：………………………式(1)為70％～90％。本發明的濺射靶，有害雜質元素含量低，晶粒尺寸細小均勻，化學成份均勻且偏離名義成分較小。使用上述濺射靶材制備的磁記錄介質，該磁記錄介質晶粒細小均勻、非磁性晶界明顯，磁學性能優良。
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“CoCrPt-氧化物磁記錄靶材、薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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