一種高溫氧化顯示因瓦合金晶粒組織的方法,屬于金相組織分析領域,所述因瓦合金為二元合金,Ni含量重量百分比為36%,其余為Fe;所述高溫氧化條件為:氧化性氣氛、溫度為600~1000℃。將加工好的試樣放入高溫氧化氣氛中保溫一定時間,取出試樣剝離表面氧化皮,在砂紙上輕磨一下,即可觀察到清晰的晶粒組織。該方法克服了傳統化學腐蝕法腐蝕時間不易控制,腐蝕劑有毒、危險以及不適合大塊試樣腐蝕等缺點。本方法具有操作簡單、顯示效果好和時間易于控制等優點,可清晰顯示因瓦合金的晶粒組織。
聲明:
“高溫氧化顯示因瓦合金晶粒組織的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)