本發明提供了一種基于V型腔陣列表面的可控電鍍法在制備高靈敏SERS基底中的應用,包括:1)制備電鍍模板,采用V型腔體結構的AAO模板,以固定角度及恒定速率蒸鍍10nm鉻和120nm銀,形成一層緊密結合的AAO銀膜電鍍層;2)制備電鍍液,配制3.3mM氯金酸和0.1M氫氟酸的混合液;3)電化學可控組裝,采用三電極的電化學工作站,電鍍模板作為工作電極,鉑片電極作為對電極,Ag/AgCl2作為參比電極,在0.1mA/cm2的恒電流密度下進行沉積生長并記錄。本發明中的金納米粒子在V型腔陣列表面可實現定向可控沉積,且獲得的高靈敏SERS基底可達到單分子檢測水平,對R6G的檢測限可低至10?18M。
聲明:
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