本發明公開了一種能保證在濺射工藝過程中有效起輝放電濺射的氧化鈮濺射靶材的制備方法,包括如下步驟:原料造粒:取純度不低于99.99%的五氧化二鈮粉末原料投于造粒設備中球化造粒;高溫脫氧噴涂:將原料造粒步驟中所得原料裝入供粉箱,將原料通過管道輸送至低壓高溫等離子噴涂槍焰體內,原料被高溫等離子焰瞬間熔化成液滴狀,被高速焰流噴涂到靶材基管表面,噴涂沉積到預定厚度;等離子焰溫度為15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在無氧高溫的等離子焰體中,原料中的一部分氧鍵被均勻的脫去,通過XRD對靶材進行分析所得靶材的化學分子式為Nb2O4.9,采用四探針電阻儀測試所得靶材電阻率為0.06Ω·cm。
聲明:
“氧化鈮濺射靶材的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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