一種用于化學機械拋光的裝置包括支撐件和電磁感應監測系統,所述支撐件用于具有拋光表面的拋光墊,所述電磁感應監測系統產生磁場以監測拋光墊正在拋光的基板。電磁感應監測系統包括芯和繞所述芯的一部分卷繞的線圈。芯包括后部、中心柱和環形邊緣,所述中心柱在與所述拋光表面正交的第一方向上從所述后部延伸,所述環形邊緣平行于所述中心柱地從所述后部延伸并且所述環形邊緣圍繞所述中心柱且與所述中心柱以一間隙間隔開。所述間隙的寬度小于所述中心柱的寬度,且所述環形邊緣的頂表面的表面積比所述中心柱的頂表面的表面積大至少兩倍。
聲明:
“用于原位電磁感應監測系統的芯配置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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