本發明公開了一種自洽驗證差分光譜儀和測量方法,通過設置一非偏振分束器,一束光實現斜入射反射差分模塊測試,另一束光用來實現斜入射差分反射模塊測試,本方法可實現秒級的寬光譜差分反射信號和反射差分信號的同時測量,基于兩種測量信號建立相應模型,分別迭代反演得到薄膜厚度參量,利用同一時刻的薄膜厚度參量必然唯一這一實際屬性,進行自洽驗證,提升測量精度,可廣泛應用于納米薄膜的工業生長領域的化學氣相沉積、分子束外延和旋涂等不同工藝的在線監測應用中。
聲明:
“自洽驗證差分光譜儀及測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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