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銦砷氮鉍半導體材料、使用該材料的激光器和探測器及制備方法

1005   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:25:17
本申請公開了一種銦砷氮鉍半導體材料、使用該材料的激光器和探測器及制備方法，涉及半導體光電材料制備領域。所述材料包括：襯底層、緩沖層和銦砷氮鉍半導體材料。通過共摻雜方式，在InAs半導體中摻入一定濃度的Bi原子和N原子，可有效調節InAs材料的禁帶寬度，實現從近紅外到中紅外波段的覆蓋，應用于光電子器件。Bi原子的摻入可使材料更易生長并更加穩定，N原子的引入可以提高Bi的溶解度。在InAs半導體中同時摻入N原子，Bi原子可以有效調節化合物的能帶結構。本申請可采用常規分子束外延、金屬有機物化學氣相沉積等多種方法進行生長，結構和操作工藝簡單，易于控制。
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聲明：
“銦砷氮鉍半導體材料、使用該材料的激光器和探測器及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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