本發明屬化學分析技術領域,涉及氮雜?氟硼二吡咯甲川在制備測定臨界膠束濃度的熒光指示劑中的應用,尤其是式(Ⅰ)或(II)結構的氮雜?氟硼二吡咯甲川化合物在制備測定兩親性表面活性物質臨界膠束濃度中的應用。所述的氮雜?氟硼二吡咯甲川化合物具有在表面活性物質CMC以下無熒光的特征,以及吸收和熒光發射波長長,量子產率高,化學和光學性質穩定,并且在CMC下受散射和背景熒光干擾小,因此熒光突變更顯著,測定終點更容易判斷,準確度更高。本發明適用于正、負離子表面活性劑、非離子表面活性劑、兩親性嵌段聚合物CMC的測定,適用的CMC范圍從毫摩爾濃度(mM)至納摩爾濃度(nM),尤其適用于具有極低CMC值的兩親性嵌段聚合物的測定。
聲明:
“氮雜-氟硼二吡咯甲川在制備測定膠束濃度的熒光指示劑中的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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