本發明公開了一種基于高光譜的潛在指紋檢測方法。具體涉及刑偵指紋痕跡檢測領域。具體方法如下:在標準檢測工作環境下,使用便攜式高光譜檢測儀對潛在指紋進行拍攝,將所獲數據經過預處理和PCA降維處理后,對指紋進行形態學和組成成分分析,并結合大數據庫獲得最終的檢測分析結果,將比對檢索出的對象信息和痕量化學組分的初步分析結果進行展示。本發明提供的潛在指紋檢測方法,能夠在現場指紋樣本無損的情況下獲得指紋的比對結果,檢測結果快速可靠,提高了刑偵工作者的效率。
聲明:
“基于高光譜的潛在指紋檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)