本發明公開一種化學機械拋光系統中拋光墊與拋光盤之間的氣泡的監測方法,包括步驟:聲波檢測裝置發射進入拋光墊上晶片運行軌跡處的聲波;接收從拋光墊上晶片運行軌跡處返回的回波;分析回波延遲,監測是否出現氣泡和出現的氣泡大小;顯示監測結果;根據監測結果產生控制化學機械拋光系統運行的命令信號;控制化學機械拋光系統運行的命令信號發送到化學機械拋光系統,由此控制化學機械拋光系統運行。
聲明:
“拋光墊與拋光盤之間的氣泡檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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