提出用于半導體加工中的超純流體如液體酸混合和/或稀釋的系統及方法。所述系統包括:第一和第二化學品分配器,用以盛裝待混合的第一流體和第二流體;第一和第二化學品分配器間的過程通路,由此使所述第一流體和第二流體流過并相混生成一種混合流體,由此還使混合流體流向用戶使用處;超聲波發射裝置(28),該裝置(28)所處位置足以發出穿透混合流體的超聲波,該裝置(28)包括測量通過所述混合流體波速的裝置并因此間接測出混合流體中第一流體和第二流體的混合量之比。
聲明:
“用于半導體加工的超高純化學品的現場混合系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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