本發明提供一種用于化學氣相沉積工藝的噴淋頭和改善化學氣相沉積工藝的均勻性的方法,所述噴淋頭用于向襯底提供反應氣體,所述噴淋頭具有端口,所述端口具有與之對應設置的窗口透明板,所述窗口透明板作為觀察通道或測試通道,通過所述窗口透明板對化學氣相沉積工藝進行監控,所述窗口透明板與端口之間通有吹掃氣體,所述吹掃氣體用于防止反應氣體在窗口透明板上發生化學反應或物理沉積。本發明使得本領域技術人員能夠在化學氣相沉積工藝過程中對噴淋頭下方的襯底的情況進行實時監控。
聲明:
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