本發明涉及一種化學氣相沉積腔室。本發明的化學氣相沉積腔室包括:腔室,設于腔室內上部的擴散板,設于腔室內下部的加熱板,以及與腔室連通以向腔室輸送工藝氣體的氣體源;所述擴散板由多個呈陣列均勻分布的子擴散板組成,所述加熱板由對應的多個呈陣列均勻分布的子加熱板組成,所述腔室設有對應的多個氣體及射頻輸送位置以在腔室內對應的位置輸送工藝氣體及射頻,所述氣體及射頻輸送位置的中心與對應的子擴散板和子加熱板的中心對應。本發明的化學氣相沉積腔室使成膜均一性更優,提高工藝可控性及穩定性;化學氣相沉積的關鍵部件更換以及檢修更加方便;化學氣相沉積的關鍵部件部分損壞后可進行更換,無需整體報廢,降低運營成本。
聲明:
“化學氣相沉積腔室” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)