化學機械拋光裝置包括:工作臺,該工作臺用于支撐拋光墊;承載頭,該承載頭用于將基板的表面固持抵靠在拋光墊上;電機,該電機用于生成工作臺與承載頭之間的相對運動,以便拋光基板上的上覆層;原位聲學監控系統;以及控制器。在一些實現中,原位聲學監控系統包括:聲學信號發生器,該聲學信號發生器用于發射聲學信號;以及聲學信號傳感器,該聲學信號傳感器接收從基板的表面反射的聲學信號??刂破鞅慌渲脼榛趤碜栽宦晫W監控系統的測量結果來檢測由于對基板的拋光而導致的下臥層的暴露。
聲明:
“用于化學機械拋光的聲學監控和傳感器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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