一種用于化學氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應裝置。屬于金剛石薄膜的化學氣相沉積技術領域。為了解決真空條件下CVD金剛石薄膜在微刀具上的沉積問題。殼體上下端分別與上蓋和底座可拆卸密封連接構成反應室,真空計固定在上蓋上,真空計的檢測端緊密穿入上蓋設置在殼體內,上蓋上固定有與殼體內腔相通的管路,針閥固定在上蓋的管路上,針閥與管路相通,上蓋的觀察孔一處固定有觀察窗一,上蓋上設有多個冷水環槽,殼體的側壁上的兩個觀察孔二處各固定有一個觀察窗二,電磁閥固定在底座的進氣孔處,導氣管一端連接于進氣箱,另一端與反應室相通,導氣管上安裝有導氣閥門,載物臺設置在反應室內并固定在底座上。本發明主要用于對沉積件微刀具表面金剛石薄膜沉積。
聲明:
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