本發明是關于一種XRF分析的基體校正系數的計算方法,包括,根據待測物品的化學成分及各成分的質量百分含量,設計樣品的化學成分及各成分的質量百分含量,所述的待測物品至少包含待測成分i、和輔助成分k;利用Sherman方程,計算待測成分i在待測物品中的X射線熒光強度Ri和待測成分i在設計樣品中的X射線熒光強度Ri′;根據所述的R和R′,計算輔助成分k對待測成分i的基體校正系數αik,所述的設計樣品各成分的質量百分含量總和等于所述的待測物品各成分的質量百分含量總和。本發明提供的計算方法得到的基體校正系數更加準確可信。
聲明:
“XRF分析的基體校正系數的計算方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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