本實用新型公開了一種納米薄膜制備及化學狀態測試系統,系統包括制備室以及與制備室連接的分析室,制備室和分析室均為真空,且制備室的真空度小于分析室的真空度;制備室內具有氬離子槍和制備平臺;分析室內具有X射線光電子能譜分析儀,X射線光電子能譜分析儀用于對制備室制備得到的薄膜材料的表面原子進行化學狀態測試;系統還包括設置在制備室和分析室內的樣品輸送裝置,樣品輸送裝置用于將制備室制備得到的薄膜材料輸送至分析室內。本方案中制備的薄膜材料不會經歷空氣的曝光,不需要用Ar離子槍把薄膜材料表面的氧化層蝕刻掉,從而避免薄膜材料中電子結合能的變化,因此可以提高薄膜材料的表面原子的化學狀態的測試的準確度。
聲明:
“納米薄膜制備及化學狀態測試系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)