本發明公開了一種可在線/原位監測的微波等離子體化學氣相沉積設備,在進行薄膜材料生長的過程中,采用光譜檢測裝置對等離子輝光的發射光譜以及薄膜材料的生長溫度等信息進行監測和分析,并采用X射線檢測技術,對材料生長過程中的表面狀態及晶體質量的演變進行實時把控和分析。采用質譜檢測技術對氣源及腔體生長環境中的氣體組分進行分析,動態監測整個生長過程中氣源組分及腔體生長環境的變化,結合光譜與X射線的監測結果,能夠為掌握整個MPCVD生長過程中薄膜材料生長的演變規律,確定缺陷的產生與生長條件及環境之間的關聯性提供決定性的證據,進而能夠為薄膜生長質量的控制以及生長環境潔凈度的提高提供更為有力的技術支撐。
聲明:
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