本實用新型公開了一種用于檢測分析電極材料充放電相變過程的原位XRD裝置,目的在于解決現有的原位XRD裝置內正極極片位于鋰片的上方,X射線需要透過正極極片內的鋁箔才能得到衍射峰,信噪比差且對材料制備要求高的問題。主要方案包括密封腔體和電化學單元,所述密封腔體具有一密閉的容納腔;所述電化學單元位于所述容納腔內,所述電化學單元包括依次設置的鈹片、正極材料、隔膜、鋰片、墊片以及彈片,所本實用新型提出的技術方案的有益效果是:通過將正極材料涂在鈹片表面,使鈹片作為集流體,從而避免了正極極片內的鋁箔對X射線衍射的影響,提高了信噪比,能顯著提高XRD譜圖質量。
聲明:
“用于檢測分析電極材料充放電相變過程的原位XRD裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)