光學(xué)透鏡鍍膜的方法

本發(fā)明公開(kāi)了一種光學(xué)透鏡鍍膜的方法，包括透鏡、載玻片、磁控濺射鍍膜機、Zn:Al、純鎢靶、真空濺射室、氬、氧氣、過(guò)硫酸鉀、化學(xué)溶液、氫氧化鋰、二氧化硅，真空濺射室真空度為：3×10?3pa，濺射氣壓為1pa，化學(xué)溶液為丙稀酰胺和甲基丙磺酸制備而成，在真空濺射室采用濺射鍍膜機以載玻片為基片，其中濺射靶材為Zn:Al和純鎢靶，通過(guò)氬和氧氣混合氣體為工作氣體，襯底溫度為室溫，濺射功率為100+W進(jìn)行制備薄膜A；本發(fā)明一種光學(xué)透鏡鍍膜的方法采用薄膜A和薄膜B進(jìn)行制備基礎載體，并通過(guò)凝膠狀離子導體進(jìn)行保證電性的導通，保證薄膜的電漸變色，方便對透膜的透光數據進(jìn)行自主的調節，通過(guò)真空濺射室和濺射鍍膜機進(jìn)行鍍膜，保證鍍膜的制備，保證透膜的各項性能。