本發明公開了一種光學透鏡鍍膜的方法,包括透鏡、載玻片、磁控濺射鍍膜機、Zn:Al、純鎢靶、真空濺射室、氬、氧氣、過硫酸鉀、化學溶液、氫氧化鋰、二氧化硅,真空濺射室真空度為:3×10?3pa,濺射氣壓為1pa,化學溶液為丙稀酰胺和甲基丙磺酸制備而成,在真空濺射室采用濺射鍍膜機以載玻片為基片,其中濺射靶材為Zn:Al和純鎢靶,通過氬和氧氣混合氣體為工作氣體,襯底溫度為室溫,濺射功率為100+W進行制備薄膜A;本發明一種光學透鏡鍍膜的方法采用薄膜A和薄膜B進行制備基礎載體,并通過凝膠狀離子導體進行保證電性的導通,保證薄膜的電漸變色,方便對透膜的透光數據進行自主的調節,通過真空濺射室和濺射鍍膜機進行鍍膜,保證鍍膜的制備,保證透膜的各項性能。
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