本發明公開了一種具有垂直孔道的SBA?15多孔薄膜的制備方法,其以P123、SDS和C16TMAB混合作為三元表面活性劑,以酸化硅酸鈉作為硅源,將兩者混合制備模板溶液后,利用簡單的旋涂成膜工藝技術,在硅片襯底上制備薄膜層,再通過干燥、焙燒除去其中的三元表面活性劑后,經水熱處理制得具有垂直孔道的SBA?15多孔薄膜。本發明制備方法新穎,制作成本低,制備工藝簡單,所得具有垂直結構的SBA?15薄膜能夠應用于光電器件和鋰電池方面的制備。
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