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a面和m面GaN薄膜材料的控制生長方法

1026   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 23:05:36
一種a面和m面GaN薄膜材料的控制生長方法，在MOCVD系統中用鋁酸鋰做襯底生長a面或m面的GaN材料，在MOCVD系統中對生長的(302)和(100)鋁酸鋰襯底在500－1050℃溫度下進行材料熱處理，時間為10－60分鐘，或然后通入氨氣進行表面氮化，時間為10－60分鐘；然后在500－1050℃溫度范圍通入載氣H2和或N2，NH3氣以及金屬有機鎵源，金屬有機鎵源流量為1－50sccm；NH3氣500－7000sccm；N與Ga之摩爾比為500－3000，在(302)或(100)鋁酸鋰襯底上合成生長a面或m面的GaN材料，生長溫度500－1050℃溫度下，時間為10－60分鐘。本發明GaN薄膜具有更好的應用價值，且薄膜厚度可以控制。
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