本發明涉及銅集流體技術領域,具體涉及一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體及其制備方法。本發明以平整的銅箔為基底,首先利用原位沉積技術在銅箔基底表面均勻覆蓋一層致密的過渡金屬層,然后在所述過渡金屬層上復合一層單質硫后,在電壓活化過程,使過渡金屬和硫原位在銅箔上均勻生成過渡金屬硫化物,其中發生反應為M+nS=MSn,其中,M指代過渡金屬元素,如Mn,Mo等,根據不同金屬元素性質不同,為形成過渡金屬硫化物,n值隨其發生變化(1≤n≤8)。在電池的循環測試中,過渡金屬硫化物可以作為鋰的優先的形核位點,使鋰金屬分布均勻,減少鋰枝晶的產生。
聲明:
“過渡金屬硫化物修飾的銅集流體及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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