本發明涉及使用鈮酸鋰化學機械拋光液對鈮酸鋰晶體高精密加工拋光后表面清潔技術。采用水拋實現的表面潔凈,水拋液的主要化學成分包括活性劑、螯合劑、阻蝕劑和去離子水。當堿性拋光剛剛完成后,馬上用上述水拋液并采用大流量水拋的方法,將殘留的拋光液沖走,同時迅速降低表面張力、形成單分子鈍化膜、并可使金屬離子形成可溶的螯合物,從而達到潔凈、完美的拋光表面。并且該水拋方法具有成本低、不污染環境及腐蝕設備的優點。
聲明:
“鈮酸鋰晶片堿性CMP后的表面潔凈方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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