本發明提供一種分流式CVD沉積室,涉及復合材料制備的技術領域,包括沉積筒和進氣室,沉積筒內設有隔板,隔板將沉積筒分為上腔室和下腔室;上腔室包括第二固定筒,第二固定筒的底部與隔板之間連接;下腔室包括引流筒和第一固定筒,第一固定筒的另一端與隔板之間留有氣體流通的第一通道,引流筒的另一端與下腔室底部之間留有氣體流通的第二通道;進氣室內設有進氣管,沉積筒內設有與進氣管連接的輸氣組件,輸氣組件包括上排氣室、主氣室、從氣管和引流管,上排氣室置于上腔室內,主氣室和從氣管設于下腔室內,引流管的底部和從氣管設于主氣室的上部,且均與主氣室連通,引流管的頂部還與上排氣室連通,上排氣室和從氣管上均設有排氣孔。
聲明:
“分流式CVD沉積室” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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