本發明涉及薄膜材料的制備和應用領域,具體是一種可精確調控納米級厚度薄膜成膜厚度和面積的制膜方法,實現厚度均勻一致的納米級厚度薄膜材料的高效控制制備。該方法采用旋轉離心制膜方法的基本原理,在基體旋轉裝置的基礎上采用具有微小孔徑的打印噴頭或針頭,在恒定成膜液體壓力和可控運動軌跡的條件下,將一定量的成膜液體以微細液柱的形式噴射到以一定速率轉動著的成膜基體表面,形成厚度、形狀及面積可控的均勻液膜,進而通過控制固化條件獲得固體的膜材料。該方法可以實現厚度均勻一致的納米級厚度薄膜材料的高效精確控制制備,可廣泛應用于光電器件、儲能器件、防護功能涂層、催化材料、復合材料等技術領域。
聲明:
“可精確調控納米級厚度薄膜成膜厚度和面積的制膜方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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